Используется для удаления дисперсионного (липкого) слоя, остающегося после отвердевания геля в УФ аппарате, также используется для очищения гелевых кистей, протиранию УФ ламп и рефлекторов внутри УФ аппаратов. Только для профессионального использования!

Способ применения:

на ватный тампон нанести небольшое количество средства и тщательно потереть этим тампоном поверхность ногтя, удаляя липкий слой. Совместим с акриловой и гелевой техникой.